(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 2021232837 77.8 (22)申请日 2021.12.24 (73)专利权人 杭州英乐特智能科技有限公司 地址 310018 浙江省杭州市钱塘新区白杨 街道科技园2号2幢80 6室 (72)发明人 高新忠　高令宇　方恩光　唐美平　 王勇　邓杰　 (51)Int.Cl. A47L 11/30(2006.01) A47L 11/40(2006.01) (ESM)同样的发明创造已同日申请发明 专利 (54)实用新型名称 清洁装置及其清洁机、 基站 (57)摘要 清洁装置及其清洁机、 基站， 清洁装置包括 污水箱和排污机构， 排污机构 包括排污件和触动 件， 排污件设置为呈软性可变形结构且排污件内 设置有排污流道； 触动件设置为可运动来形成对 排污件的压接且不与污水接触； 触动件可相对排 污件在第一位置和第二位置 之间运动， 当触动件 位于第一位置时排污流道打开， 当触动件位于第 二位置时排污流道关闭。 清洁机主要安装清洁装 置来排污水。 基站主要安装清洁装置来排污水。 本方案解决了现有技术中排放污水中存在的容 易堵塞、 可靠性较低的问题， 并解决了现有技术 中存在的排污水的通道因污水引起的堵塞导致 的不排污水时密封效果差而存在容易泄漏气流 的问题。 权利要求书3页 说明书20页 附图11页 CN 217040002 U 2022.07.26 CN 217040002 U 1.清洁装置， 包括用于收集污水的污水箱， 其特征在于： 污水箱设置有污水腔和排污 口， 排污口与污水腔可相连通 来用于排 放污水； 还包括排污机构， 排污 机构直接或间接的与排污口相连 可用于排 放污水； 排污机构包括排污件和触动件， 排污件设置为呈软性可变形结构且排污件内设置有排 污流道来用于 污水的通过； 触动件设置为可运动的结构， 触动件设置为位于排污件的外侧来构 成触动件不与排污 流道接触的结构或构成当排污流道内有污水时触动件不与污水接触的结构； 触动件设置为可相对排污件在第 一位置和第 二位置之间运动， 当触动件位于第 一位置 时排污流道呈打开结构， 当触动件位于第二位置时触动件构成对排污件的压接结构使得排 污流道呈关闭结构。 2.根据权利要求1所述的清洁装置， 其特征在于： 触动件位于排污件的一侧， 且触动件 设置为可移动的结构或设置为可旋转的结构， 又或触动件设置为可伸缩变形的结构； 触动件上设置有压接部且当触动件接触排污件形成压接结构时设置压接部与排污件 接触的位置形成有截流部， 截流部设置为呈平面或弧面的面状构造结构， 或截流部设置为 不呈线状构造结构。 3.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 设置截流部沿排污流道的长度方向上 的距离值H大于等于排污流道的截面上的相对两点之间的距离值的一半； 或设置截流部沿排污流道的长度方向上的距离值H大于等于1毫米； 或设置截流部的面积值大于等于 压接部的面积值的一半。 4.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 压接部上至少设置有一个退压部， 退 压部设置为相对压接部上朝向排污件方向的外端面呈远离排污件方向来构成凹陷结构， 当 触动件位于第二位置时退压部在排污件上对应的位置形成有容污部且压接部上的退压部 之外的部位在排污件上对应的位置上 形成有截流部 。 5.根据权利要求4所述的清洁装置， 其特征在于： 当压接部上设置有一个退压部时则设 置退压部位于压接部的中部位置或中心位置使得当触动件位于第二位置时构成容污部的 两侧均形成有截流部； 和/或， 当压接部上设置有多个退压部时则设置相邻两个容污部之间构成有一个截流 部且压接部上沿排污件的长度方向上的两侧 位置均构成有截流部使得多个容污部均位于 两个截流部之间的区域 位置上。 6.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 至少排污件上靠近触动件的一端位置 上设置有朝向排污件的外侧方向呈凸起结构的实压部使得当触动件朝向排污件方向运动 时压接部预先接触实压 部来形成与排污件之间的压 接结构； 或， 排污件上设置朝向排污件外侧方向呈环形凸起结构的实压部使得当触动件朝向排 污件方向运动时压 接部预先接触实压 部来形成与排污件之间的压 接结构。 7.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 压接部上沿排污件的长度方向上的两 侧位置设置有朝向远离排污件方向呈逐渐倾斜的平面或 弧面结构， 当触动件位于第二位置 时在排污件对应的两侧位置处构成有缓压部， 缓压部的截面设置为朝向截流部方向呈逐渐 收窄的结构。 8.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 压接部上朝向排污件方向的端面上设权　利　要　求　书 1/3 页 2 CN 217040002 U 2置有导引部， 导引部设置呈凸起的弧面或球面结构， 且导引部在排污件上进行投影形成的 投影区域上的相对两点之间的距离小于排污流道的截面上的相对两点之间的距离 。 9.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 排污件上远离触动件的一侧设置有承 压件， 承压件设置为至少 部分呈接触或包覆排污件的外表面的一部分的结构， 且承压件设 置为呈软性可变形的结构。 10.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 排污件上设置有耐压部， 至少耐压部 的一部分与压接部对应， 当触动件运动使得压接部接触排污件时形成与耐压部接触的结构 来在耐压 部的内侧形成截流部； 耐压部的外表面到排污流道的表面之间的距离大于排污件上耐压部之外的部位位置 的外表面到排污流道的表面之间的距离 。 11.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 排污件的外表面与排污流道的表面 之间设置有弹力件， 且当排污流道内有污水时弹力件设置为不与污水接触的结构， 弹力件 设置为可沿触动件的运动方向进行弹性变形的结构使得当触动件脱离排污件时排污件可 在弹力件的作用下使得排污流道呈打开状态； 或， 排污流道内或排污件的外表面上设置有弹力件且弹力件设置为可沿触动件的运动 方向进行弹性变形的结构使得当触动件脱离排污件时排污件可在弹力件的作用下使得排 污流道呈打开状态。 12.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 设置排污机构安装在位时形成排污 流道呈竖直结构分布或呈相对水平方向呈倾斜结构分布， 排污流道的上部 设置为朝向上部 方向来形成直接或间接地与排污口相连通的结构， 排污流道的下部 设置为朝向侧部或下部 方向来形成直接或间接地与污水箱的外 部相连通的结构。 13.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 排污件上截流部对应的排污流道的 部分位置上设置排污流道的截面呈由上部位置 至下部位置逐渐扩大的倾 斜结构； 或， 排污件上截流部对应的排污流道的部分位置上设置排污流道的截面呈由上部位置 至下部位置逐渐扩大的倾 斜结构且 对应位置的排污件的外表面 不呈倾斜结构。 14.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 至少截流部位置对应的排污件的结 构设置有导 流层， 导流层包绕地 来构成排污流道， 导 流层的外侧包绕设置有回弹层； 回弹层设置为可与导 流层同步变形或同步回弹的结构。 15.根据权利要求14所述的清洁装置， 其特征在于： 设置回弹层的回弹系数大于导流层 的回弹系数， 或， 设置回弹层的厚度大于导 流层的厚度， 或， 设置回弹层的内径与厚度的比值小于导 流层的内径与厚度的比值。 16.根据权利要求2所述的清洁装置， 其特征在于： 设置排污流道的截面上至少包括相 对两点之间的距离设置为大于等于 5毫米； 或， 设置排污件的杨氏模量小于10GPa； 或， 排污流道的截面设置为呈圆形结构、 椭圆形结构或多边形结构， 且排污件对应的设 置为呈柱形结构或呈多边形结构， 排污机构包括外壳， 外壳上设置有限位部， 排污件通过限 位部限位 安装在外壳上。 17.清洁机， 其特征在于： 清洁机包括清洁模块和动力机构， 还包括权利要求1 ‑16任一权　利　要　求　书 2/3 页 3 CN 217040002 U 3